Tööstuslik SiC vertikaalne ahjutoru, kõrge soojusjuhtivusega ja korrosioonikindel

Lühike kirjeldus:

Meie ränikarbiidist (SiC) toru, mis on konstrueeritud vertikaalsete ahjude välimiseks protsessitoruks, tagab rangelt kontrollitud atmosfääri ja väga ühtlase temperatuurivälja. See on loodud taluma pikaajalist kokkupuudet temperatuuriga ~1200 ℃ ja keerukate protsessigaasidega, mis nõuavad ülikõrget puhtust, head termilist jõudlust ja kivikõva konstruktsioonilist terviklikkust.

Saada meile e-kiri

Omadused

Detailne diagramm

Ränikarbiidist vertikaalne ahjutoru – toote ülevaade

Kvartsklaaslehed, tuntud ka kui sulatatud ränidioksiidist plaadid või kvartsplaadid, on kõrge puhtusastmega ränidioksiidist (SiO₂) valmistatud spetsiaalsed materjalid. Neid läbipaistvaid ja vastupidavaid lehti hinnatakse nende erakordse optilise selguse, kuumakindluse ja keemilise stabiilsuse poolest. Tänu oma suurepärastele omadustele kasutatakse kvartsklaaslehti laialdaselt paljudes tööstusharudes, sealhulgas pooljuhtide, optika, fotoonika, päikeseenergia, metallurgia ja täiustatud laborirakenduste valdkonnas.

Meie kvartsklaaslehed on valmistatud tippkvaliteedilistest toorainetest, nagu looduslik kristall või sünteetiline ränidioksiid, mida töödeldakse täppissulatamise ja poleerimise tehnikate abil. Tulemuseks on ülitasane, vähese lisandiga ja mullivaba pind, mis vastab tänapäevaste tööstusprotsesside kõige rangematele nõuetele.

Peamised omadused

Ühes tükis 3D-prinditud struktuur
Eemaldab õmblused ja pingekontsentraatorid, et maksimeerida mehaanilist tugevust ja töökindlust.

Ülimalt madal lisandite sisaldus
Alusmaterjal300 ppmCVD-kattega pind;5 ppm—saastumise minimeerimine ülipuhta töötlemise tagamiseks.

Kõrge soojusjuhtivus
Kiire ja ühtlane soojusülekanne võimaldab täpset temperatuuri reguleerimist ja tugevat ühtlust kogu vahvli ulatuses.

Suurepärane termilise löögi taluvus
Talub sagedasi kuuma/külma tsükleid ilma pragunemata – pikendades kasutusiga ja vähendades hooldusvajadust.

Suurepärane korrosioonikindlus
CVD SiC pind kaitseb agressiivsete kemikaalide ja mitmekesise atmosfääri eest, tagades pikaajalise stabiilsuse.

Rakendused

Pooljuht:Oksüdeerimine, difusioon, lõõmutamine – iga etapp, mis nõuab ranget temperatuuri ühtlust ja puhtust.
Fotogalvaanika:Vahvli tekstureerimine, difusioon, passiveerimine stabiilsete ja korratavate tulemustega.
Täiustatud materjalid ja kuumtöötlus:Ühtlane kõrge temperatuuriga keskkond teadus- ja arendustegevuse ning tootmisseadmete jaoks.

KKK

K1: Peamised rakendused?
A:Pooljuhtide, fotogalvaaniliste ja täiustatud materjalide protsessid – nt difusioon, oksüdeerimine, lõõmutamine ja passivatsioon –, kus atmosfääri ja temperatuuri ühtlus määravad saagikuse.

K2: Maksimaalne töötemperatuur?
A:Hinnatud kuni≤ 1300 ℃tüüpiline pidev töö on umbes1200 ℃suurepärase konstruktsioonilise stabiilsusega.

K3: Kuidas see võrdub kvartsist või alumiiniumoksiidtorudega?
A:SiC pakub kõrgemat temperatuuritaluvust, palju paremat soojusjuhtivust, suurepärast termilist löögikindlust, pikemat kasutusiga ja märkimisväärselt madalamat lisandite taset – ideaalne tänapäevaste pooljuhtide ja PV-nõuete jaoks.

Meist

XKH on spetsialiseerunud spetsiaalse optilise klaasi ja uute kristallmaterjalide kõrgtehnoloogilisele arendamisele, tootmisele ja müügile. Meie tooted on mõeldud optilisele elektroonikale, tarbeelektroonikale ja sõjaväele. Pakume safiiroptilisi komponente, mobiiltelefonide objektiivikatteid, keraamikat, LT-d, ränikarbiidist SIC-i, kvartsist ja pooljuhtkristallplaate. Tänu oskusteabele ja tipptasemel seadmetele oleme silmapaistvad mittestandardsete toodete töötlemisel, seades eesmärgiks olla juhtiv optoelektrooniliste materjalide kõrgtehnoloogiline ettevõte.