Räni/ränikarbiidi (SiC) vahvli neljaastmeline ühendatud poleerimisautomaatikaliin (integreeritud poleerimisjärgne käitlemisliin)

Lühike kirjeldus:

See neljaastmeline ühendatud poleerimisautomaatikaliin on integreeritud lahendus, mis on loodud järgmistele eesmärkidele:pärast poleerimist / pärast CMP-doperatsioonidränijaränikarbiid (SiC)vahvlid. Ehitatud ümberkeraamilised kandjad (keraamilised plaadid), süsteem ühendab mitu järgnevat ülesannet üheks koordineeritud liiniks, aidates tehastel vähendada käsitsi käitlemist, stabiliseerida taktiaega ja tugevdada saastumise kontrolli.

Saada meile e-kiri

Omadused

Detailne diagramm

Räni/ränikarbiidi (SiC) vahvli neljaastmeline ühendatud poleerimisautomaatikaliin (integreeritud poleerimisjärgne käitlemisliin)4

Ülevaade

Pooljuhtide tootmisesefektiivne CMP-järgne puhastuson laialdaselt tunnustatud kui võtmetähtsusega samm defektide vähendamiseks enne järgmist protsessi ning täiustatud lähenemisviisid (shmegasooniline puhastus) arutatakse tavaliselt osakeste eemaldamise jõudluse parandamiseks.

Eriti ränikarbiidi (SiC) puhul on sellekõrge kõvadus ja keemiline inertsmuuta poleerimine keeruliseks (sageli seotud madala materjali eemaldamise kiiruse ja suurema pinna/aluspinna kahjustamise riskiga), mis muudab stabiilse poleerimisjärgse automatiseerimise ja kontrollitud puhastamise/käitlemise eriti väärtuslikuks.

Räni/ränikarbiidi (SiC) vahvli neljaastmeline ühendatud poleerimisautomaatikaliin (integreeritud poleerimisjärgne käitlemisliin)5

Räni/ränikarbiidi (SiC) vahvli neljaastmeline ühendatud poleerimisautomaatikaliin (integreeritud poleerimisjärgne käitlemisliin)2

Peamised eelised

Üks integreeritud liin, mis toetab:

Vahvlite eraldamine ja kogumine(pärast poleerimist)
Keraamiline kandja puhverdamine/ladustamine
Keraamilise aluse puhastamine
Vahvli kinnitamine (kleepimine) keraamilistele kanduritele
Konsolideeritud, üherealine tegevus6–8-tollised vahvlid

Tehnilised andmed (kaasasolevalt andmelehelt)

Seadme mõõtmed (P × L × K):13643 × 5030 × 2300 mm
Toiteallikas:Vahelduvvool 380 V, 50 Hz
Koguvõimsus:119 kW
Puhtuse paigaldus:0,5 μm < 50 tk; 5 μm < 1 tk
Paigaldustasasus:≤ 2 μm

Läbilaskevõime viide (esitatud andmelehelt)

Seadme mõõtmed (P × L × K):13643 × 5030 × 2300 mm
Toiteallikas:Vahelduvvool 380 V, 50 Hz
Koguvõimsus:119 kW
Puhtuse paigaldus:0,5 μm < 50 tk; 5 μm < 1 tk
Paigaldustasasus:≤ 2 μm

Tüüpiline liinivool

Sisend / liides ülesvoolu poleerimisalalt
Vahvlite eraldamine ja kogumine
Keraamilise kandja puhverdamine/salvestus (taktiaja lahtisidumine)
Keraamilise aluse puhastamine
Vahvlite paigaldamine kanduritele (puhtuse ja tasapinna kontrolliga)
Väljastus allavoolu protsessi või logistikasse

KKK

K1: Milliseid probleeme see liin peamiselt lahendab?
A: See lihtsustab poleerimisjärgseid toiminguid, integreerides kiipide eraldamise/kogumise, keraamiliste kandja puhverdamise, kandja puhastamise ja kiipide paigaldamise ühte koordineeritud automatiseerimisliini – vähendades käsitsi kokkupuutepunkte ja stabiliseerides tootmisrütmi.

K2: Milliseid vahvlimaterjale ja -suurusi toetatakse?
V:Räni ja SiC,6–8 tollivahvlid (vastavalt esitatud spetsifikatsioonile).

K3: Miks rõhutatakse tööstuses CMP-järgset puhastamist?
A: Valdkonna kirjanduses rõhutatakse, et nõudlus tõhusa CMP-järgse puhastuse järele on kasvanud, et vähendada defektide tihedust enne järgmist etappi; megasoonilisi lähenemisviise uuritakse sageli osakeste eemaldamise parandamiseks.

Meist

XKH on spetsialiseerunud spetsiaalse optilise klaasi ja uute kristallmaterjalide kõrgtehnoloogilisele arendamisele, tootmisele ja müügile. Meie tooted on mõeldud optilisele elektroonikale, tarbeelektroonikale ja sõjaväele. Pakume safiiroptilisi komponente, mobiiltelefonide objektiivikatteid, keraamikat, LT-d, ränikarbiidist SIC-i, kvartsist ja pooljuhtkristallplaate. Tänu oskusteabele ja tipptasemel seadmetele oleme silmapaistvad mittestandardsete toodete töötlemisel, seades eesmärgiks olla juhtiv optoelektrooniliste materjalide kõrgtehnoloogiline ettevõte.